全自動二流體離心硅片晶圓清洗機(jī)半導(dǎo)體清洗機(jī)

全自動二流體離心硅片晶圓清洗機(jī)半導(dǎo)體清洗機(jī)

       主要用于攝像頭模組表面微塵清洗，通過高壓純水沖洗及水氣二流體清洗，從而實(shí)現(xiàn)了有效去除Holder，CMOS本體，Wafer等表面微塵顆粒。

             設(shè)備特點(diǎn):

一鍵式操作，整個(gè)清洗過程全自動完成，無需人工千預(yù);離心速度可調(diào)+振幅實(shí)時(shí)監(jiān)測;鏡面不銹鋼結(jié)構(gòu)，并設(shè)有工藝觀察窗口，實(shí)用美觀;設(shè)計(jì)，多級過濾，無二次污染;設(shè)備能耗低，運(yùn)行噪音小，環(huán)境友好;

       設(shè)備外形緊湊，占地面積小，調(diào)配便捷;霧化效果均勻，二流體壓力均勻，運(yùn)行安全穩(wěn)定;全體系儀表監(jiān)測，并設(shè)有報(bào)警裝置;純水自動加壓過濾，確保清洗效果。