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氧化鋁微粒是拋光液中的主要成分，其顆粒大小決定了拋光液的磨料性能。較小的顆?？商峁└?xì)膩的拋光效果，而較大的顆粒則適用于粗糙表面的拋光。此外，氧化鋁微粒還具有高硬度和耐磨性，能夠有效去除表面的劃痕和瑕疵。
穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過程中團聚和沉積，保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時，穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度，以適應(yīng)不同材料的拋光需求。
在使用氧化鋁拋光液時，需要注意以下幾點：
1. 選擇適合的顆粒大小和穩(wěn)定劑類型，根據(jù)需要進行調(diào)配。
2. 在拋光過程中，控制拋光液的溫度、濃度和拋光時間，以避免對材料造成損傷。
3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩(wěn)定性，及時更換或補充添加。
氧化鋁拋光液作為一種常用的表面處理劑，具有良好的拋光效果和穩(wěn)定性。正確選擇和使用拋光液，可以提高材料的表面質(zhì)量和光潔度，達到預(yù)期的拋光效果。
使用方法:
1.在配比好的溶液里面直接攪拌均勻，到攪拌分散開為止(5~10分鐘)。
2.按照1:3比例稀釋，在耐堿容器中先加水再加拋光液，攪拌至完全懸浮為止。
3.根據(jù)使用方式調(diào)拋光機的轉(zhuǎn)速:a)單面拋光:50-70RPM。b)雙面拋光:20-30RPM。
4.調(diào)拋光機的壓力:380-400g/cm2(單拋)、250-280g/cm2(雙拋)。
5.選擇拋光墊:聚氨酯，邵氏A硬度在85以上。
納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環(huán)使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導(dǎo)體碳化硅晶圓的CMP拋光。
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