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粒徑均勻氧化鋁拋光液,氧化鋁拋光液聯(lián)系方式,蘭州氧化鋁拋光液,氧化鋁拋光液供應(yīng)商 |
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氧化鋁拋光液是一種常用的表面處理劑,廣泛應(yīng)用于金屬、陶瓷、塑料等材料的拋光過(guò)程中。它由氧化鋁微粒和穩(wěn)定劑組成,具有良好的拋光效果和穩(wěn)定性。
穩(wěn)定劑在拋光液中起到穩(wěn)定和調(diào)節(jié)pH值的作用。它能夠防止氧化鋁微粒在拋光過(guò)程中團(tuán)聚和沉積,保持拋光液的均勻性和穩(wěn)定性。同時(shí),穩(wěn)定劑還能調(diào)節(jié)拋光液的酸堿度,以適應(yīng)不同材料的拋光需求。
在使用氧化鋁拋光液時(shí),需要注意以下幾點(diǎn):
1. 選擇適合的顆粒大小和穩(wěn)定劑類(lèi)型,根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)配。
2. 在拋光過(guò)程中,控制拋光液的溫度、濃度和拋光時(shí)間,以避免對(duì)材料造成損傷。
3. 定期檢查拋光液的質(zhì)量和穩(wěn)定性,及時(shí)更換或補(bǔ)充添加。
注意事項(xiàng):
●投入使用可以在鉆石液研磨后或碳化硼研磨后使用。
●拋光液原漿PH在12.5-13.5之間,稀釋后PH太低會(huì)影響去除率。
●使用中控制拋光墊溫度在45度以下。拋光液循環(huán)使用后,去除率下降,由單位確定是否換新液。
●拋光液的拋光效率,無(wú)結(jié)晶、濃縮液易清洗:推薦稀釋比例(1:3~1:5)。
化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)技術(shù)具有特的化學(xué)和機(jī)械相結(jié)合的效應(yīng),是在機(jī)械拋光的基礎(chǔ)上,根據(jù)所要拋光的表面,加入相應(yīng)的化學(xué)試劑,從而達(dá)到增強(qiáng)拋光和選擇性?huà)伖獾男Ч??;瘜W(xué)機(jī)械拋光液的性能是影響化學(xué)機(jī)械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò)合劑、表面活性劑、磨料、pH調(diào)節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分,各種添加劑的選擇和含量對(duì)拋光效果都會(huì)產(chǎn)生很大的影響。
目前市場(chǎng)上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于藍(lán)寶石、碳化硅等材料的CMP技術(shù)中。Al2O3具有10余種晶型,其中常見(jiàn)的為α、β、γ等,一般選用50~200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。
氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復(fù)合材料的研磨及拋光等表面處理:
1、手機(jī)殼,陶瓷,玻璃、水晶、光學(xué)玻璃等振動(dòng)拋光(機(jī)器拋光、滾動(dòng)拋光)、手動(dòng)拋光(研磨拋光)等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。
2、單晶硅片等半導(dǎo)體、壓電晶學(xué)、光學(xué)晶體、光學(xué)玻璃、光學(xué)塑料、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、光學(xué)鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、
3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。
4、汽車(chē)油漆打磨拋光,樹(shù)脂拋光等,油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。
5、 劃痕去除:寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕;汽車(chē),船舶等表面油漆出現(xiàn)的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液,用海綿布或者拋光墊等在其表面來(lái)回拋磨,很快就光亮如新,無(wú)一點(diǎn)擦痕。
使用與用量:
推薦用量為1~20%,使用者應(yīng)根據(jù)不同體系經(jīng)過(guò)試驗(yàn)決定佳添加量。
◆ 以防少許沉淀,建議使用前先搖勻。
◆ 使用時(shí),以不同濃度并據(jù)不同行業(yè)的需要可用過(guò)濾清潔水加以稀釋?zhuān){(diào)制不同濃度。
氧化鋁拋光液是一種應(yīng)用在金相拋光中的磨料。其實(shí),它的作用還遠(yuǎn)不止于此。它還可以去除樣品表面肉眼不可見(jiàn)的表面變形層,尤其是使用高倍物鏡、偏振光、微分干涉或EBSD 技術(shù)檢測(cè)或是評(píng)定樣品時(shí)。對(duì)于一些做鑄鐵、鋼、不銹鋼、銅、聚合物、礦物質(zhì)、微電子、貴金屬等金相樣品制備的實(shí)驗(yàn)室來(lái)說(shuō),氧化鋁拋光液是的一種磨料。
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