- 信息報(bào)價(jià)
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化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術(shù)特征 可根據(jù)客戶需求設(shè)計(jì)尺寸，能滿足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求； 采用多05月27日 -
該立式化學(xué)氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。 技術(shù)特征 采用先進(jìn)的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動(dòng)范圍??；01月15日
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立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。 技術(shù)特征 根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)構(gòu)設(shè)置溫區(qū)，溫度均勻性好； 采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密05月27日
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180000.00元一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介： 該設(shè)備ZYG1700-100是一款非標(biāo)定制的小型雙溫區(qū)管式爐；可實(shí)現(xiàn)一邊進(jìn)氣做氣象沉積同時(shí)還能抽真空，保持爐膛內(nèi)的真空度為負(fù)壓的狀態(tài)；真空系統(tǒng)由干泵+分子泵組成真空度可達(dá)6.67..12月11日
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39800.00元鄭州科探儀器設(shè)備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商，客戶服務(wù)和售后服務(wù)。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下，高度積極地開發(fā)新設(shè)..06月14日
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1.00元供應(yīng)石墨烯氣相沉積法鴻峰牌CVD系統(tǒng) 該設(shè)備為咸陽(yáng)鴻峰窯爐設(shè)備有限公司自主設(shè)計(jì)的化學(xué)氣相沉積爐，主要針對(duì)石墨烯薄膜的連續(xù)式沉積，屬于宏量制備系統(tǒng)。 設(shè)備特點(diǎn)： 1.該設(shè)備可以實(shí)02月28日
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100000.00元設(shè)備介紹： 本設(shè)備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低09月11日
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39800.00元鄭州科探儀器設(shè)備是定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商，客戶服務(wù)和售后服務(wù)。擁有7年以上真空和薄膜沉積鍍膜技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。氣相沉積濺射其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下，高..06月14日
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設(shè)備名稱：鴻峰牌CVD設(shè)備化學(xué)氣相沉積爐 設(shè)備用途： 真空CVD設(shè)備&化學(xué)法氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐主要用于實(shí)驗(yàn)室新型炭材料和膜材料的化學(xué)沉積實(shí)驗(yàn),屬于管式高溫回轉(zhuǎn)爐。 該設(shè)備燒結(jié)溫03月12日
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真空感應(yīng)化學(xué)氣象沉積爐哪家好，真空熔煉爐代理產(chǎn)品詳情 真空感應(yīng)化學(xué)氣相沉積爐是在真空或保護(hù)氣氛下，利用中頻感應(yīng)原理將置于感應(yīng)線圈內(nèi)的石墨坩堝加熱，石墨坩堝中放入被制備的03月31日
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（一）產(chǎn)品用途：對(duì)于石墨烯生長(zhǎng)工藝非常合適。制作硅片可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜，對(duì)于離子注入后的貴金屬，各種黃05月24日
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中國(guó)化學(xué)氣相沉積涂層碳市場(chǎng)發(fā)展動(dòng)態(tài)及投資機(jī)遇調(diào)研報(bào)告2024-2030年mm+mm中mmm+mmm智mmm+信mmm+mm投mm+mm研mm+mm究mm+網(wǎng)mmm【全新修訂】：2024年6月【出版機(jī)構(gòu)】：中智信投研究網(wǎng)【內(nèi)容部分有..09月04日
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全球與中國(guó)常壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)市場(chǎng)全面調(diào)研及發(fā)展趨勢(shì)研究報(bào)告2021-2027年**************************************【報(bào)告編號(hào)】 324356【出版日期】 2021年9月【出版機(jī)構(gòu)】 中研華泰研究..09月04日
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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD），價(jià)格咨詢15301310116 北京麥迪森科技有限公司 符合CE認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn)的三溫區(qū)CVD系統(tǒng)，生長(zhǎng)樣品腔的管徑60-120mm，它是由高溫管式爐、多路高精度流量控制與04月18日
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29800.00元等離子體化學(xué)氣相沉積（ plasma chemical vapor deposition）簡(jiǎn)稱PCVD，是一種用等離子體激活反應(yīng)氣體,促進(jìn)在基體表面或近表面空間進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成固態(tài)膜的技術(shù)。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)..10月28日
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產(chǎn)品用途：主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業(yè)進(jìn)行真空燒結(jié)、氣氛保護(hù)燒結(jié)、真空鍍膜、CVD實(shí)驗(yàn)、物質(zhì)成分05月27日
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很多客戶都在尋找優(yōu)于傳統(tǒng)(液體)涂層方式的鍍膜產(chǎn)品，這時(shí)您可能會(huì)搜索到一個(gè)叫派瑞林涂層的工藝，那么我們?yōu)槭裁床辉龠x擇液體涂層方式而改用氣相沉積的派瑞林鍍膜方式了呢?派瑞林涂層工藝與..08月11日
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產(chǎn)品名稱 Parylene真空氣相沉積鍍膜機(jī) 產(chǎn)品型號(hào) VPC-508 工作環(huán)境 電源：380V 五線 6平方以上電纜，大功率15KW 環(huán)境溫度：0-40℃ 環(huán)境濕度：<90% 控制系統(tǒng) PLC控制系統(tǒng) 尺寸 外觀尺寸..06月30日
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121.00元産品名稱：氣相防銹母粒英文名稱：VCI MASTERBATCH産品型號(hào)：L-UH-D-Q-5型産品介紹：氣相防銹母粒是當(dāng)今生産制造塑料氣相防銹薄膜以及功能性防銹包裝材料不可缺少的主要基材和原料；氣相防銹..09月04日
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100.00元氣相自動(dòng)切換閥日本ITO伊藤AX-30A 概述 液化石油氣用自動(dòng)切換式一體型調(diào)壓器左右兩方各有一個(gè)入口，一方（正在使用方）的液化氣容器的供氣壓力不能維持正常供應(yīng)時(shí)，由另一方（預(yù)備方）04月09日
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