西門子EDI模塊維護。
根據用戶的數據和描述，制定初步的維護計劃。
2.EDI模塊到達工廠后，檢查其外觀是否損壞。
確認無誤后，將EDI模塊安裝在EDI測試機上運行，檢查其異常參數并進行記錄。
機器檢測和清洗，如有必要進行拆卸檢查，更換內部損壞的部件，包括板材、陽離子膜、樹脂、隔板、連接線、密封圈等損壞材料。
4.EDI模塊清理完畢后，更換新材料，更換后用鎖緊螺栓組裝。
組裝完成后，將EDI模塊安裝在EDI模塊再生機上，進行長達10小時的再生操作，并詳細記錄參數。

.更新完成后，將向客戶出具EDI組件維護報告和EDI組件損壞判斷報告，幫助業(yè)主更好地使用EDI組件，幫助維護其純水系統。
、維修完成后，重新測試，工廠測試合格后48小時再測試給客戶。
可提供清洗劑及完整的清洗保養(yǎng)方案。
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EDI模塊的維護主要是針對出水量下降、水質惡化等問題，是對EDI進行清洗、調整參數、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應用過程中，EDI模塊可能因外部壓力過大或內部故障而需要維修。
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EDI損壞的主要原因

EDI模塊是純水或者超純水設備的核心部件，當EDI運行不穩(wěn)定或者無法使用時，會造成拋光混床樹脂的使用期限降低或者失去使用效果，***終導致水質產出異常，從而影響生產工作。

-LXM30Z運行參數及產水水質

典型膜堆性能
操作參數
回收率 90-95%
允許進水壓力上限 7bar（100psi）
允許進水溫度上限 45℃（113F）
名義流量時的壓降范圍 1.4-2.1bar（20-30psi）
產水水質
產水電阻率 >16MQ.cm（見下面說明）
說明：實際性能可以用lonpure的IP-Pro設計軟件確定
硅（SiO2）去除率 90-99%，取決于進水條件

超純水在光學領域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質純度已成為影響光學器件產品質量、產量和生產成本的重要因素之一。

　　光學領域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質，會影響電子管的質量。因此，應使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內壁上附著一層熒光物質，該熒光物質是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質，LCD電路將出現故障，影響LCD屏幕的質量。

　　6、在晶體管和集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設備已經成為電子產品質量安全的重要設備。根據光學元件用水要求，對超純水處理技術進行了全自動 EDI超純水處理、預處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質，進一步改善水質，使出水水質滿足現場光學元件的用水要求。在原料選擇、設計技術、數據監(jiān)測、環(huán)境保護等方面均有較好的應用前景。改進工藝可提高系統回收率，降低能耗和運行費用。