西門(mén)子EDI模塊維護(hù)。
根據(jù)用戶(hù)的數(shù)據(jù)和描述，制定初步的維護(hù)計(jì)劃。
2.EDI模塊到達(dá)工廠后，檢查其外觀是否損壞。
確認(rèn)無(wú)誤后，將EDI模塊安裝在EDI測(cè)試機(jī)上運(yùn)行，檢查其異常參數(shù)并進(jìn)行記錄。
機(jī)器檢測(cè)和清洗，如有必要進(jìn)行拆卸檢查，更換內(nèi)部損壞的部件，包括板材、陽(yáng)離子膜、樹(shù)脂、隔板、連接線(xiàn)、密封圈等損壞材料。
4.EDI模塊清理完畢后，更換新材料，更換后用鎖緊螺栓組裝。
組裝完成后，將EDI模塊安裝在EDI模塊再生機(jī)上，進(jìn)行長(zhǎng)達(dá)10小時(shí)的再生操作，并詳細(xì)記錄參數(shù)。

工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù)，與普通去離子水設(shè)備相比，不僅提高了導(dǎo)電性，而且增強(qiáng)了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對(duì)水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來(lái)越好，EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛。
在維護(hù)中，需要注意哪些問(wèn)題？
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工業(yè)EDI去離子水設(shè)備。
維修注意事項(xiàng)。
1、做好登記工作，方便日后備查；
2、設(shè)備完全智能化，但仍需不定期人工檢查設(shè)備運(yùn)行情況；
3、設(shè)備的自潔環(huán)節(jié)至關(guān)重要，要定期檢查運(yùn)行是否正常；
4.定期更換濾芯；
5、定期監(jiān)測(cè)反滲透主機(jī)運(yùn)行時(shí)的壓力、流量、水質(zhì)指標(biāo)；
6、注意水質(zhì)，如果水質(zhì)太差，會(huì)導(dǎo)致設(shè)備損壞。

離子交換樹(shù)脂的應(yīng)用

1.羅門(mén)哈斯離子交換樹(shù)脂的作用是清除水中或其他溶液中的金屬以及其他雜質(zhì)離子，起到凈化水的作用。

2.羅門(mén)哈斯離子交換樹(shù)脂拋光樹(shù)脂一般用于超純水處理系統(tǒng)末端，來(lái)***系統(tǒng)出水水質(zhì)能夠維持用水標(biāo)準(zhǔn)。一般出水水質(zhì)都能達(dá)到18兆歐以上，以及對(duì)TOC、SIO2都有一定的控制能力。

-LXM30Z運(yùn)行參數(shù)及產(chǎn)水水質(zhì)

典型膜堆性能
操作參數(shù)
回收率 90-95%
允許進(jìn)水壓力上限 7bar（100psi）
允許進(jìn)水溫度上限 45℃（113F）
名義流量時(shí)的壓降范圍 1.4-2.1bar（20-30psi）
產(chǎn)水水質(zhì)
產(chǎn)水電阻率 >16MQ.cm（見(jiàn)下面說(shuō)明）
說(shuō)明：實(shí)際性能可以用lonpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定
硅（SiO2）去除率 90-99%，取決于進(jìn)水條件

如何選擇EDI電源？

　　在選擇EDI電源之前，我們需要明確EDI系統(tǒng)的產(chǎn)水流量、CEDI模塊的品牌、CEDI模塊的數(shù)量以及型號(hào)等參數(shù)，不同品牌，不同廠家生產(chǎn)的CEDI膜堆流量、運(yùn)行壓力、電壓、電流是不相同的。在明確每臺(tái)CEDI模塊的流量，運(yùn)行電壓和電流之后，我們就可以選擇相應(yīng)的EDI電源了。目前在國(guó)內(nèi)，好的EDI電源品牌主要有上海懿博和上海萌欣，可以配套使用在0.5噸-5噸流量，電流0-10A，電壓0-600V的CEDI模塊上。如果您對(duì)EDI電源的選型上還有疑問(wèn)，