關(guān)鍵詞 |
柳州edi超純水設(shè)備,濟(jì)源edi超純水設(shè)備,市、edi超純水設(shè)備,市、edi超純水設(shè)備 |
面向地區(qū) |
全國 |
品牌 |
西門子 |
加工定制 |
是 |
水質(zhì)技術(shù)等級(jí) |
15MΩ.cm |
進(jìn)水壓力 |
常壓 |
應(yīng)用領(lǐng)域 |
電廠化學(xué)水處理 |
西門子EDI模塊維護(hù)。
根據(jù)用戶的數(shù)據(jù)和描述,制定初步的維護(hù)計(jì)劃。
2.EDI模塊到達(dá)工廠后,檢查其外觀是否損壞。
確認(rèn)無誤后,將EDI模塊安裝在EDI測試機(jī)上運(yùn)行,檢查其異常參數(shù)并進(jìn)行記錄。
機(jī)器檢測和清洗,如有必要進(jìn)行拆卸檢查,更換內(nèi)部損壞的部件,包括板材、陽離子膜、樹脂、隔板、連接線、密封圈等損壞材料。
4.EDI模塊清理完畢后,更換新材料,更換后用鎖緊螺栓組裝。
組裝完成后,將EDI模塊安裝在EDI模塊再生機(jī)上,進(jìn)行長達(dá)10小時(shí)的再生操作,并詳細(xì)記錄參數(shù)。
工業(yè)EDI去離子水設(shè)備是目前比較的電滲析和離子交換技術(shù),與普通去離子水設(shè)備相比,不僅提高了導(dǎo)電性,而且增強(qiáng)了離子從溶液到膜表面的遷移,提高了極限電流密度,是許多對水要求較高的行業(yè)的理想設(shè)備之一。
隨著這種純凈水設(shè)備的口感越來越好,EDI去離子水設(shè)備的應(yīng)用也越來越廣泛。
在維護(hù)中,需要注意哪些問題?
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EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對于EDI模塊的維護(hù),需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染,進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化,可以通過分析污染類型,采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi),則水質(zhì)會(huì)變差,可以通過調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性,應(yīng)立即切斷電源,檢查接線,將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍,并檢查各電路連接是否正確。EDI模塊水質(zhì)惡化的維護(hù)要點(diǎn):
對于EDI模塊的維護(hù),需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設(shè)置錯(cuò)誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染,進(jìn)出口的污染也可能導(dǎo)致出水水質(zhì)惡化,可以通過分析污染類型,采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi),則水質(zhì)會(huì)變差,可以通過調(diào)整相關(guān)的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性,應(yīng)立即切斷電源,檢查接線,將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍,并檢查各電路連接是否正確。
(1)常用配件如EDI樹脂、陰陽膜片、陰陽極板、框架隔板密封圈等,均******產(chǎn)品,延長膜塊的使用壽命。
(2)常見問題如EDI氧化、EDI接頭斷裂、內(nèi)部發(fā)熱燒壞、純水室污堵、濃水室積垢、隔板漏水、內(nèi)部老化等造成的EDI水質(zhì)下降、流量下降、漏水漏電等,均能夠有效修復(fù),修復(fù)后EDI膜塊的性能和質(zhì)量均能達(dá)到甚至超過原品。
離子交換樹脂的應(yīng)用
1.羅門哈斯離子交換樹脂的作用是清除水中或其他溶液中的金屬以及其他雜質(zhì)離子,起到凈化水的作用。
2.羅門哈斯離子交換樹脂拋光樹脂一般用于超純水處理系統(tǒng)末端,來***系統(tǒng)出水水質(zhì)能夠維持用水標(biāo)準(zhǔn)。一般出水水質(zhì)都能達(dá)到18兆歐以上,以及對TOC、SIO2都有一定的控制能力。
IONPURE西門子EDI模塊 EDI系統(tǒng)IONPURE西門子EDI模塊IP-LXM45ZEDI模塊是出水量為5噸規(guī)格的模塊,是西門子公司針對工業(yè)水處理打造的EDI模塊產(chǎn)品。針對工業(yè)應(yīng)用而開發(fā)西門子工業(yè)型膜堆利用連續(xù)電去離子技術(shù)(CEDI)生產(chǎn)高純水,其產(chǎn)水水質(zhì)等同甚至優(yōu)于混床出水。由純水室、濃水室、電極板等部分組成。
-LXM30Z運(yùn)行參數(shù)及產(chǎn)水水質(zhì)
典型膜堆性能
操作參數(shù)
回收率 90-95%
允許進(jìn)水壓力上限 7bar(100psi)
允許進(jìn)水溫度上限 45℃(113F)
名義流量時(shí)的壓降范圍 1.4-2.1bar(20-30psi)
產(chǎn)水水質(zhì)
產(chǎn)水電阻率 >16MQ.cm(見下面說明)
說明:實(shí)際性能可以用lonpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定
硅(SiO2)去除率 90-99%,取決于進(jìn)水條件
超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。
光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水:
1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子,電容器就會(huì)漏電。
2、在電子管的生產(chǎn)中,電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì),會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此,應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。
3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中,通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì),該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒,并與硅酸鉀粘結(jié),其制備也需要超純水。
4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中,玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。
5、液晶屏需要用超純水清洗,并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì),LCD電路將出現(xiàn)故障,影響LCD屏幕的質(zhì)量。
6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中,超純水主要用于清洗硅片,少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。
超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求,對超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理,有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì),進(jìn)一步改善水質(zhì),使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率,降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。
使用EDI超純水系統(tǒng)時(shí)有一定的規(guī)則,用戶需要遵守這些規(guī)則。,在使用設(shè)備時(shí),不能立即進(jìn)入工作狀態(tài)。操作前預(yù)熱并等待10分鐘。然后,讓我們看看EDI超純水系統(tǒng)的維護(hù)和使用注意事項(xiàng)。
一、EDI超純水系統(tǒng)運(yùn)行
設(shè)備在運(yùn)行一段時(shí)間后可能會(huì)發(fā)熱。這是正常的,但在設(shè)備運(yùn)行了一定時(shí)間后,有必要讓設(shè)備休息一下。
此外,EDI超純水系統(tǒng)的工作時(shí)間為每天8小時(shí),10小時(shí)可以,但使用一段時(shí)間后,用戶清潔設(shè)備以恢復(fù)受污染設(shè)備的原始性能。在恢復(fù)設(shè)備性能的同時(shí),應(yīng)盡可能確保清洗安全,避免損壞超純水系統(tǒng)。
————— 認(rèn)證資質(zhì) —————
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